产品领域
Product Field
RTR 25DE/15DE 双面卷对卷直写光刻系列
业界领先的卷对卷双面直写光刻解决计划，，，， ，引领高精度引线框架制造。。 。。。。双面同时曝光设计包管双面图案高度一致性和瞄准精度。。 。。。。该系统接纳DMD手艺，，，， ，通过高精度的资料剖析能力，，，， ，最小可实现25μm细腻线路及优异的线宽一致性和边沿粗糙度，，，， ，在包管高品质的同时，，，， ，可降低整体运行本钱。。 。。。。
产品特点
01
无掩模直写曝光
01
自动纠偏
01
双面同时曝光
01
气动涨紧上料
01
顺应多种尺寸规格需求
01
支持多种数据名堂（GDSⅡ/Gerber/ODB++）
*以上数据泉源于CFMEE实验室测试效果，，，， ，详细情形可能因现实使用情形而有所差别。。 。。。。本公司保存对相关数据和内容举行调解的权力，，，， ，恕不另行通知。。 。。。。
联系优游国际|UB8优游国际|共创优美未来
若是您需要咨询与相助，，，， ，请联系优游国际|UB8优游国际|共创优美未来的销售和手艺支持团队，，，， ，我们将竭诚为您提供专业的解答与定制化效劳计划。。 。。。。
效劳热线: 400-8935-098
效劳咨询: sales@cfmee.cn